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三星發布全新3D記憶體路線圖!效能為HBM5八倍 力爭AI技術領先地位

三星8月4日在加州發布業界首款zHBM和zNAND-O概念模型。取自三星官網 zoomin
三星8月4日在加州發布業界首款zHBM和zNAND-O概念模型。取自三星官網
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【編譯張翠蘭/綜合外電】南韓三星電子周二(8/4)發布新一代人工智慧(AI)儲存技術,展示其最先進的記憶體硬體,包括V10 Bonding V-NAND原型晶片,記憶體儲存密度提高約58%,並勾勒出全新3D記憶體路線圖,這款名為zHBM的新系統,把高頻寬記憶體垂直堆疊在AI加速器之上,效能約為下一代HBM5的八倍。三星力圖在長期市場競爭中超越競爭對手SK海力士和美光科技,贏得市場主導地位。

本文大綱

摘要重點

+ 瞭解機制
1
三星發表 zHBM 架構,採垂直堆疊與晶圓鍵合,效能與密度達 HBM5 的 8 倍與 10 倍。
2
首度亮相逾 400 層的 V10 BV-NAND 原型晶片,儲存密度較前代 V9 大幅提升 58%。
3
搶佔兆元記憶體市場,三星記憶體長期協議將佔銷售額近 7 成。

彭博報導,這家全球最大的記憶體晶片製造商8月4日在加州聖克拉拉舉行的NAND Flash技術盛會記憶體與儲存的未來(Future of Memory and Storage,FMS)大會,發布最新技術,這款名為zHBM的全新系統,凸顯三星致力於成為AI時代端到端基礎設施供應商的努力。

把記憶體垂直堆疊在AI加速器上方

三星在聲明中表示,其全新系統將高頻寬記憶體垂直堆疊在人工智慧加速器之上,效能約為下一代HBM5的八倍,將熱阻降低一半以上。該系統採用先進的晶圓鍵合(wafer-bonding)技術,記憶體密度也將達到HBM5的十倍以上,同時也支援客製化設計。

路透社指出,傳統的高頻寬記憶體通常與AI處理器並排放置,但三星的zHBM不同的是,把記憶體垂直堆疊在AI加速器上方,進而縮短資料傳輸距離,在提高頻寬的同時提升能源效率。

三星計劃在今年下半年提高HBM4的產量。但目前尚未公布HBM5或這項未來技術的明確時間表。

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圖為三星電子的LOGO。法新社 zoomin
圖為三星電子的LOGO。法新社

首款V10 BV-NAND原型晶片

該公司也推出業界首款V10 BV-NAND原型晶片,該晶片擁有超過400層,並採用全新的晶圓鍵合架構,旨在提高儲存密度和效能。BV-NAND技術相比上一代的V9 NAND技術,儲存密度提高約58%,同時提升讀取、寫入和輸入/輸出性能,以滿足AI系統對更高容量和更節能儲存日益增長的需求。

同時,三星也推出基於其V-NAND技術的新一代NAND解決方案zNAND-O,據稱該方案能更好支援即時、資料密集的AI應用。

AI市場需求走勢強勁

三星上周披露,與客戶簽訂的長期協議最終可能佔其記憶體銷售額的60%至70%,進一步凸顯AI市場需求的強勁走勢。

彭博分析,三星此次技術革新正值記憶體市場競爭白熱化之際,這個市場規模接近1兆美元(約32.41兆元台幣)。三星正與SK海力士以及美國美光科技展開激烈角逐。隨著記憶體巨頭競相爭奪利潤豐厚的資料中心合約並擴大生產規模,搶先於競爭對手推出下一代架構對於贏得重要客戶極為重要。

 

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