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施振榮力挺!NEO Semiconductor發表X-SRAM與NEO.AI平台 突破AI記憶體瓶頸

NEO Semiconductor創辦人許富菖在FMS2026主題演講中,展示研發成功的全球首創3D DRAM POC晶片。施振榮辦公室提供 zoomin
NEO Semiconductor創辦人許富菖在FMS2026主題演講中,展示研發成功的全球首創3D DRAM POC晶片。施振榮辦公室提供
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【記者李宜儒/台北報導】由矽谷華人許富菖創立的AI記憶體公司NEO Semiconductor,今日於全球記憶體與儲存產業年度盛會Future Memory and Storage(FMS 2026)發表新一代AI晶片內建記憶體技術X-SRAM,並同步推出NEO.AI平台。

本文大綱

解決AI晶片內建記憶體容量不足及高頻寬記憶體容量與功耗限制

該平台整合X-SRAM與3D X-DRAM兩項核心技術,致力解決AI晶片內建記憶體容量不足,以及高頻寬記憶體(HBM)容量與功耗限制等兩大挑戰。

宏碁集團創辦人暨台積電前董事施振榮表示,看好NEO Semiconductor持續推動AI記憶體創新,並期待這些突破為台灣及全球半導體產業帶來更多可能。

Future Memory and Storage(FMS) 是全球記憶體與儲存產業最具影響力的年度國際盛會,匯聚半導體、AI、雲端運算、資料中心等領域的國際企業與產業領袖。今年NEO Semiconductor受邀發表主題演講,由創辦人暨執行長許富菖(Andy Hsu)正式介紹X-SRAM與NEO.AI平台,展現公司於新世代AI記憶體技術的重要突破。

創新3D NAND-like架構突破傳統DRAM微縮限制

隨著生成式AI與大型語言模型快速發展,AI晶片對記憶體容量的需求持續攀升。然而,傳統SRAM於先進製程已逐漸接近微縮極限,使晶片內建快取容量成長受限,導致HBM存取增加、功耗與成本同步提升,形成日益嚴重的AI Memory Wall。

許富菖亦於主題演講中分享 3D X-DRAM 最新進展。該技術採用創新的3D NAND-like架構,突破傳統DRAM微縮限制,並已與國立陽明交通大學產學創新研究學院(IAIS)及國家實驗研究院台灣半導體研究中心(TSRI)完成概念驗證(POC)測試晶片開發,目前正持續朝商業化邁進。

施振榮表示:「AI正快速改變全球產業,而記憶體將是支撐下一階段AI發展的重要關鍵。我很高興看到NEO Semiconductor持續推出X-SRAM與NEO.AI等創新技術,為突破AI記憶體瓶頸提供新的方向,也期待這些創新能為台灣及全球半導體產業帶來更多可能。」

許富菖表示:「當傳統記憶體逐漸接近物理極限,AI Memory Wall已成為下一代AI發展的重要挑戰。透過NEO.AI平台整合X-SRAM與3D X-DRAM,我們希望同時提升晶片內建記憶體與HBM容量,打造更高效、更具擴充性的AI記憶體架構。我們也正積極尋求與全球晶圓代工夥伴合作,共同推動X-SRAM技術開發,加速下一代AI記憶體技術商業化,攜手推動AI運算邁向新的世代。」

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