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天品切入AI伺服器散熱市場 攜手欣偉成立奈科推水冷系統專業清洗解決方案
【記者李宜儒／台北報導】前身為精威科技的天品（6199）今（26日）宣布，攜手擁有逾25年經驗的欣偉科技策略合作，一同成立奈科潔淨科技，其中由天品持股70%，雙方聯手打造針對AI水冷伺服器的專業清洗解決方案，搶攻AI伺服器清洗市場的龐大商機。
展望2025年下半年，天品集團對於整體營運成長深具信心，其中業務範圍，已正式從生命服務產業跨足AI科技雙軸轉型，目前天品在AI事業的佈局已馬不停蹄擴大市場佔有率，以目前主要客戶給予的清洗訂單需求來看，訂單能見度已達2026年第1季，且在目前天品實驗平均良率高達90%以上的優異成績下，隨著客戶需求持續攀升，整體營運呈先蹲後跳，再加上生命服務事業基隆孝光閣於2026年正式啟動，銷售業績注入下，兩大事業體引擎動能全開。
奈科董事長李振寬表示，面對AI加速晶片如NVIDIA（輝達）GB300等高性能伺服器帶來的液冷散熱浪潮，由於更高速的運算意味著會產生更多熱能，因此需要散熱模組去協助熱能排放，避免晶片過熱導致效能不穩定甚至影響其壽命，而作為散熱系統關鍵主流的應用水冷系統，憑藉其優異的冷卻效能，成為關鍵熱管理解決方案。
同時，為確保系統穩定運作與延長使用壽命，水冷系統除了要求高效的熱交換與穩定冷卻液性能外，對循環系統的清潔度亦有嚴格控管，若有微小顆粒或汙染物進入系統，將隨液體流動對管路與精密零組件造成長期磨損，嚴重者恐導致漏液與設備故障等問題，凸顯AI伺服器清洗市場龐大的商機。
奈科指出，公司具備Class 100無塵室、先進化學藥水配方與精密顯微檢測設備，且傳承擁有欣偉累積超過20年在多家半導體客戶包括聯電、美光、世界先進、日月光等，針對不鏽鋼管件蝕刻後段製程、半導體元件、複雜構造零件等清洗業務的多項實績經驗，並建置獨立液冷散熱系統清洗的產能。
目前奈科開發的特用藥水R01，相較於傳統DI水與酒精清洗方式，對於150微米以上顆粒的清除效率提升達50%，能大幅減少因微粒污染導致的AI伺服器故障率與維修風險，奈科將運用旗下高潔淨標準與精密過濾機制，從源頭控管水質與材料潔淨度，全面提升水冷系統的可靠性與壽命。
奈科表示，目前清洗最大產能規模可達500櫃（以目前GB200主要散熱系統設計並採一工班計算），可針對AI伺服器散熱用的散熱器水箱（Radiator）與流體分歧管（Manifold）等產品提供全流程、低微粒、高效率的潔淨服務，目前初步已取得市場上多家主流液冷散熱製造產業之客戶合作訂單，預計今年下半年起將逐步加入產能排程中，為業績帶來新一波營運成長動能。
