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人物｜汪佳慧從英特爾接掌ASML副總裁「大開眼界」 文化包容、今年在台徵才千人
【記者蕭文康／台北報導】2025年4月，汪佳慧從英特爾跳槽正式接任ASML副總裁暨總經理一職，她透露到ASML後，可說是「大開眼界」的震撼感，「我們的荷蘭同事直率、直接，說話不繞彎，非常坦誠。這種文化訓練讓台灣員工學會勇於挑戰與被挑戰，這是一項很重要的技能組合。」她也形容公司的文化是非常包容多元人才的一個平台，讓每一位員工都能看到職涯的不同面向和可能性。
3C文化：Collaboration、Challenge與Care
相較於她過去服務的企業，汪佳慧認為，ASML更加明顯地展現了對人才多樣性的尊重和鼓勵。 「在ASML，我們給予員工機會，讓他們看見不一樣的世界，也能夠以不同視角來詮釋工作和成長。」她分享，許多在台灣工作的員工，希望透過內部調動，跨至總部或其他國家分公司例如日本，參與重要的產能提升計畫(ramp-up)。這樣的安排，不僅豐富員工的工作經驗，也讓台灣成為ASML全球人才供應鏈的重要一環。
在企業文化面向，汪佳慧特別強調ASML「3C」核心價值——合作(Collaborate)、挑戰(Challenge)與關懷(Care)，這三者共同塑造了一個積極向上又溫暖的人才生態系。尤其是「挑戰」這項文化，對於習慣較含蓄溝通方式的台灣員工來說，是一大考驗，但也正是培養關鍵職場技能的重要養分。
曝到ASML大開眼界、持續學習與人才留任的關鍵策略
她親曝剛到ASML時覺得非常eye-opening（大開眼界） ，是對人才的一個包容。「我們的荷蘭同事直率、直接，說話不繞彎，非常坦誠。這種文化訓練讓台灣員工學會勇於挑戰與被挑戰，這是一項很重要的技能組合。」而正是這種開放而誠實的溝通，促成團隊協作的效能大幅提升，也養成員工面對問題不退縮的態度。
除了文化的開放與包容，ASML在人才發展上更投注大量資源於教育訓練。汪佳慧透露，近兩年公司努力推行多元的進修課程與技能提升機制，鼓勵員工不斷精進，成為更具備競爭力的全方位人才。「員工在不同崗位中能夠不斷磨練技術與管理能力，公司也樂於看到這樣的成長。」她說，這不僅是人才個人職涯的加分項，也有助於公司面對市場快速變化時的彈性調度。
ASML台灣的離職率只有約3.9%、今年大幅新增千名人才
談及員工流動率，汪佳慧自豪地指出，ASML台灣的離職率只有約3.9%，遠低於業界平均水準。原因是公司積極推動內部人才流動政策，希望有30%的職缺能由現有員工透過內部轉調填補，鼓勵員工嘗試新角色、新挑戰，實現多元職涯發展，「我們更願意留住人才，而不是頻繁從外部招募。」
她說，當然隨著業務成長，仍有持續吸納外部優秀人才的需求，但核心目標是打造一個員工願意長期投入、成長茁壯的工作環境，新世代人才的理想之地隨著產業數位轉型加速，年輕世代員工對於多元化、彈性化工作需求越來越高。
汪佳慧認為，ASML正是一個能滿足新世代期待的理想平台，這裡不僅有國際視野與多元文化，還有開放的環境與多元發展機會，讓人才充分發揮潛能，她也鼓勵年輕人勇於挑戰自我，利用公司提供的各種資源與機會，拓展技能與視野。這樣的投入，不但能轉化為工作競爭力，也能為個人帶來豐富且有意義的職涯體驗。
她提到，ASML在台灣現在大概有4000多員工，今年將再大幅擴增1000名員工，新北廠職缺多達300個，其中新增約400個左右都是support（支援）客戶、或者是裝機符、服務及logistic（物流）、管理等。汪佳慧說，ASML將持續深化在地人才布局與技術支持能力，與台灣半導體生態系共同成長。
百分百綠電覆蓋、ASML 將淨零從目標轉為現實
她也提到，未來半導體產業需求成長將帶動能源使用大幅提升，若未採取行動，相關碳排放至2030年可能顯著增加。對此，ASML 正從產品、營運及整體價值鏈著手，推動全方位永續轉型。
在範疇一和範疇二部分，截至2025年底，ASML宣告於全球製造設施與建築物達到溫室氣體中和（greenhouse gas neutral）。同時，ASML在台灣和全球營運達成 100% 使用再生能源的目標。此外，ASML更透過遍及全球自有營運的節能專案，於2021年至2025年期間創造148 TJ的節能成效，約相當於26000公噸的二氧化碳排放，超出原先預期100 TJ的48%。
在範疇三部分，ASML也開始以部分海運取代空運以減少碳排，並在2025年完成26台設備以海運送達客戶端。
ASML更逐步將減碳範疇由自身營運延伸至客戶端製程，關注設備在實際生產中的能源使用情形，讓永續實踐進一步延伸至整體半導體生態系，以於2040年達成整體價值鏈溫室氣體中和為長期目標，持續推動半導體產業的低碳轉型。
EUV減耗雙軌策略、產能提升與製程優化並行
ASML透過提高產能與簡化製程曝光次數幫助客戶降低生產單位晶圓的能耗，以因應AI與高效能運算持續成長所帶來的晶片需求與能源挑戰。以旗艦機型 TWINSCAN NXE:3800E為例，其產能已從每小時220片晶圓提升至230片，且預計在2030年前將整體EUV設備的晶片產量提升達50%。
在能耗表現上，自2018年以來，EUV設備每次晶圓曝光的能耗已降低57%，而透過新一代High NA EUV的導入，將關鍵層的多重曝光製程簡化為單次曝光，也可達到提高良率、縮短生產週期，與降低單位晶圓製造成本和能耗的目標。在製程優化方面，ASML積極和客戶合作，自2018年起，透過氫氣回收再利用、冷卻水，以及機台睡眠模式動態節能等專案，持續優化節能效益。
除了設備能效提升和製程優化之外，ASML亦持續推動循環經濟策略，透過設備翻新、零件維修再利用等方式，降低資源浪費並延長產品生命週期。自2019年以來，ASML台灣已完成超過130台設備翻新與近萬件零件維修再利用，持續支持半導體產業在提升產能的同時，兼顧資源使用效率與永續發展。
