ASML與台積電宣布升級至12寸High NA EUV光罩合作 預計2033年支援量產
【記者蕭文康/台北報導】ASML(艾司摩爾)今分別與台積電(2330)、三星及英特爾揭露12吋High NA微影系統導入先進製程量進度。各方9月7日於BACUS國際光學工程學會(SPIE)先進微影技術研討會前宣布發起產業合作,共同推動轉移升級至12吋光罩,以將高數值孔徑極紫外光(High NA EUV)微影技術的價值發揮到極致,其中與台積電合作目標於2031年之前建立12吋光罩試產線(pilot line)並於2033年之前實現微影系統全面就緒,以支援先進製程量產。