大部分零件為中國國產 部分關鍵零件來自日本
《The Information》並未透露這家製造商的名稱，但消息人士表示，該公司的這項業務是從數家中國企業招募／挖角DUV研發團隊，其中一家是獲中國政府支持的新創公司Shanghai Yuliangsheng Technology。自2025年9月以來，中芯國際一直在測試一台由Yuliangsheng製造的浸沒式微影設備。
受這項消息影響，ASML股價周一盤中一度大跌逾8%，收盤仍有5.8%跌幅。
這些新設備的大部分零組件均為中國國產，但部分關鍵零組件仍來自日本，而中國本土供應商的交貨延遲也使今年的產量受到限制。
美國眾議院第8170號決議，將中芯國際、華虹、長鑫、華為及長江存儲列為法律上的受限制實體，而這5家企業中的3家，正是這款國產微影機首批點名的客戶。
4月提出的《MATCH法案》已於4月22日經美國眾議院外交事務委員會審查通過，並送交眾議院全院審議；參議院也提出配套法案S. 4281。該法案中有關浸沒式DUV的條款涵蓋設備維修與技術協助，而不只是新設備出口，因此適用範圍也延伸至已安裝、目前正在中國晶圓廠運作的設備。過去2年來，這些中國晶圓廠一直透過非原廠管道升級既有設備，以延長這批設備的使用壽命。
ASML明年浸沒式微影產能拚增30% 今年中國營收佔比降至20%
ASML財務長Roger Dassen在公司7月財報電話會議上告訴分析師，ASML預計2026年將出貨約130台浸沒式微影系統，與2025年持平。他補充表示，ASML計劃在2027年將浸沒式微影設備的產能「提高30%」，並正在評估2028年再提高30%的可能性。今年中國市場約佔ASML淨營收的20%，低於2025年的33%，主要需求來自成熟製程邏輯晶片。
浸沒式DUV微影設備單次曝光即可形成28奈米級圖形，透過多重圖形化可達到7奈米，但也會付出套刻誤差增加及良率下降的代價。ASML執行長Christophe Fouquet在同一場財報電話會議上表示，DRAM微影製程複雜度上升，部分原因是客戶以成本更低的單次曝光EUV取代多重圖形化製程。
AI Futures Project於6月發布的獨立分析指出，中國商業規模的浸沒式DUV微影設備可能要到2030年代中期才能實現，而ASML目前掌握浸沒式微影市場98.7%市佔率。
要讓這些新設備通過生產線的量產驗證，可能需要數個月時間，而且其效能與製造品質仍落後ASML的設備。至於中國國產EUV的研發進展，《路透》最早於去年12月報導其已出現可運作的原型機，但距離實際量產仍有數年之遙。
