分析｜ASML攜手台積電3巨頭研發12吋High NA光罩 專家揭背後「2大關鍵」
【記者蕭文康／台北報導】ASML（艾司摩爾）8日同時與台積電（2330）、三星及英特爾揭露12吋High NA微影系統導入先進製程量進度，並共同推動轉移升級至12吋光罩，將高數值孔徑極紫外光（High NA EUV）微影技術的價值發揮到極致，包括與台積電合作目標於2031年之前建立12吋光罩試產線，預計於2033年之前實現量產。專家對此分析，AI時代晶片如輝達GPU尺寸持續增大、設計更複雜，進一步凸顯這個限制，因此，業界推動更大尺寸的12吋光罩除了產業協作分攤成本外，也能一次曝光更大面積的晶片圖案，消除拼接需求。
