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High NA EUV
曝光晶圓能耗大降67%！ASML台灣全據點落實100%綠電　拚2040全價值鏈淨零

曝光晶圓能耗大降67%！ASML台灣全據點落實100%綠電　拚2040全價值鏈淨零

【記者蕭文康／台北報導】全球半導體微影技術大廠艾司摩爾（ASML）長期深耕台灣，從環境永續、社會參與和人才發展等面向落實永續行動。其中，在環境永續方面，將設備能源效率納入技術發展方向，著手降低產品使用階段的能源消耗。根據 ASML EUV長期技術路線圖，2026年每片曝光晶圓能耗較 2018年降低約 67%。在企業營運與價值鏈管理上， ASML台灣已於 2025年達成全據點100%使用再生電力，全球營運亦於同年達成100%使用再生能源。
2026/10/01 17:40
財經 產業脈動
美光曝已在台投資逾1.6兆元！4大基地加速擴產　台中新廠10月啟用封裝HBM

美光曝已在台投資逾1.6兆元！4大基地加速擴產　台中新廠10月啟用封裝HBM

【記者蕭文康／台北報導】台灣美光科技董事長盧東暉今說明美光在台灣過去1年發展與未來展望，其中，台灣美光截至今年6月，在台灣累計投資已超過新台幣1.6兆元，當中又有大約一半是在最近4年內投入。目前為因應AI需求，桃園、苗栗銅鑼、台中及台南四大基地同步擴建，包括台中先進封裝二廠預計10月完成啟用，投入高頻寬記憶體（HBM）封裝。不過，他也認為台灣美光積極擴產也面挑戰，例如設備交付、承攬商人力及特殊材料供應等必須克服。
2026/10/01 12:45
財經 產業脈動
分析｜ASML攜手台積電3巨頭研發12吋High NA光罩　專家揭背後「2大關鍵」

分析｜ASML攜手台積電3巨頭研發12吋High NA光罩　專家揭背後「2大關鍵」

【記者蕭文康／台北報導】ASML（艾司摩爾）8日同時與台積電（2330）、三星及英特爾揭露12吋High NA微影系統導入先進製程量進度，並共同推動轉移升級至12吋光罩，將高數值孔徑極紫外光（High NA EUV）微影技術的價值發揮到極致，包括與台積電合作目標於2031年之前建立12吋光罩試產線，預計於2033年之前實現量產。專家對此分析，AI時代晶片如輝達GPU尺寸持續增大、設計更複雜，進一步凸顯這個限制，因此，業界推動更大尺寸的12吋光罩除了產業協作分攤成本外，也能一次曝光更大面積的晶片圖案，消除拼接需求。
2026/09/12 16:37
財經 產業脈動
台積電Q2市佔率增至72.5%穩居全球之冠　世界先進擠下合肥晶合排第8

台積電Q2市佔率增至72.5%穩居全球之冠　世界先進擠下合肥晶合排第8

【記者蕭文康／台北報導】雖近日三星號稱2奈米良率達8成並在大客戶訂單有所斬獲，不過，根據TrendForce最新晶圓代工產業研究，三星今年第2季全球市佔率不增反減，由6.5%降至5.9%，而台積電（2330）市佔率則由第1季的72.3%增到72.5%，進一步拉大與三星的差距。值得留意的是世界先進第2季營收季增13.8%，擠下合肥晶合排第8名。
2026/09/10 08:05
財經 產業脈動
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