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全球半導體需求旺!ASML力推High NA EUV與多光束檢測技術 加速製程微縮創新

全球半導體需求旺!ASML力推High NA EUV與多光束檢測技術 加速製程微縮創新

【記者蕭文康/台北報導】由於全球半導體產業的強勁需求持續推升市場規模成長,預估2030年全球半導體銷售額將突破1兆美元,加上AI帶來建力與能耗的指數型挑戰,成為推動半導體設計與製造技術加速創新的關鍵力量。各大晶片製造商將以多種路徑加速製程微縮,包含2D微縮、全新電晶體架構設計,以及3D 封裝整合等技術。ASML表示,在EUV方面,High NA EUV已在今年第2季推出,至9月客戶已曝光35萬片,同時,DUV推最新I-line系統正式跨入先進封裝後段領域、電子束檢測則新推eScan2200超過2000電子束。
應用材料研發新一代電子束 檢測奈米級晶片缺陷快3倍

應用材料研發新一代電子束 檢測奈米級晶片缺陷快3倍

【記者蕭文康/台北導】應用材料宣布推出新的缺陷複檢系統,幫助領先的半導體製造商持續突破晶片微縮的極限。應材的SEMVision™ H20系統將業界最靈敏的電子束(eBeam)技術結合先進的AI影像辨識,能夠更精確、迅速地分析埋藏在世界上最先進晶片裡的奈米級缺陷。其中,新型SEMVision H20系統運用兩項重大創新,能以極高的精確度分類缺陷,並提供結果的速度比現今最先進技術快3倍。
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